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近两年，由于老美对华为的芯片禁令，让国内认识到芯片国产化替代的重要性。因此，国内兴起了“造芯”热潮，大量的资金涌入到芯片行业，并且仅去年就新增半导体相关企业2.28万家。
然而，在这股热潮下，却有不少泡沫存在！
个别企业以造芯片为名义骗取政府补贴、获取融资，最终因资金链断裂导致项目烂尾。近一年来，就有6个百亿级半导体大项目先后停摆，总规划投资规模达2974亿元，如武汉弘芯、成都格芯、南京德科码、陕西坤同、贵州华芯通等！这其中最大的当属武汉弘芯，总投资额达1280亿元，却最终成了“千亿芯片骗局”！近日，再度传出消息，公司无复工复产计划，将遣散全体员工。这个烂尾项目运行三年，最终以这种方式宣告结束。不过，还给留下了三点好处。
武汉弘芯项目曾一度非常耀眼，公司于2017年11月成立，主攻14纳米逻辑工艺生产线及晶圆级先进封装生产线，请来了台积电创始人张忠谋的左膀右臂、台积电“二号人物”蒋尚义出任CEO，还购买了荷兰 ASML公司的光刻机。人才、器材、钱财全都到位，貌似进展非常顺利，人们对武汉弘芯可以说是满怀希望。然而，最终暴露了真实面目，原来不过是假借造芯片名义来圈钱。幸亏及时发现，被武汉政府全盘接管，接下来考虑对接合作，争取实现一定程度的回收利用。虽然武汉弘芯半导体宣称总投资超过千亿元，但资金并未全数到位，据说至少拿下超80亿元投资，也只进行了花费占比最小的建厂工程，也就是说没有骗多少就暴露了。但武汉弘芯骗局非常值得我们警醒，可以说给我们上了大大的一课！自此之后，国家开始严控半导体制造的投资项目，必须确认项目的资金到位，并且拥有相应产品技术后，才允许项目开始建设和找人才，确保今后不会再发生类似芯片项目烂尾事件。武汉弘芯事件的好处之一，就是正式宣告了半导体烂尾结束了！武汉弘芯事件的好处之二，就是于2019年重金请来了芯片界传奇人物、台积电功勋重臣蒋尚义来担任CEO。蒋尚义可是名副其实的“芯片行业大牛”，在台积电任职多年，打造出世界级研发团队，引领台积电从技术追随者为技术领导者！蒋尚义在半导体业界资历超过四十年，在台积电参与了从微米制程到 20 纳米甚至 16 纳米 FinFET 等重要制程节点。因此，蒋尚义的加盟，在当时引起了不小的轰动，他除了带来了许多台积电的老员工，也吸引来了不少颇具实力的半导体工程师。然而，最终却让蒋尚义非常失望，他表示在武汉弘芯时期“是段令人难受的经历”！因此，他于去年6月就向公司递交了书面辞职，不再参与弘芯任何项目运营。半年后，蒋尚义加入中芯国际担任副董，原来跟随的不少工程师也选择加入中芯。人才对于芯片制造行业至关重要，尤其是这些从事过、有经验的高级人才。武汉弘芯请的这些人才，正好为中芯国际所用，有利于更好发展。并且蒋尚义还将给中芯带来他擅长的芯片先进封装技术，还就EUV光刻机再次牵线跟荷兰ASML沟通。最近，网上正在盛传，武汉弘芯烂尾事件可惜了那台7nm光刻机，号称是“国内唯一能生产7nm芯片”设备。当时武汉弘芯还专门举行了首台高端光刻机设备进厂仪式，后来被为获利5.8亿元贷款，将这台ASML 光刻机抵押给武汉农村商业银行。然而，我们大家都被误导了，这世上根本就没有所谓的“7nm光刻机”，这只是厂商为了宣传效果以此命名。7nm只是一种工艺的代号，它和光刻机本身是不挂钩的。简单说，如果用这台光刻机生产28nm，是不是应该叫28nm光刻机了。并且，武汉弘芯的这台ASML光刻机，也并不是国内唯一，中芯国际也有，并且去年3月又从荷兰 ASML 进口了一台。这个“7nm光刻机”，其实是荷兰ASML第四代浸没式光刻机，也就是DUV光刻机，工艺极限可达到7nm。但并不是拥有了这个光刻机，就可以生产7nm的芯片。下面简单说下，DUV光刻机使用波长为 193nm光源，单次曝光的分辨率极限可以达到38nm。而EUV 光刻机使用13.5nm EUV 作为光源，单次曝光的分辨率极限可以达到13nm。那么如何使用分辨率极限为38nm 的光刻机来实现7nm芯片呢，这就要用到FinFET制程工艺，进行双重曝光或多重曝光。台积电就曾DUV 光刻机造出7nm芯片，这也就是为什么中芯国际研发的N+1工艺，可以实现7nm芯片。DUV 光刻机可以造出7nm芯片，这也是顶点，但并不表明拥有了这个光刻机，就能够造出7nm芯片，关键是芯片制程工艺。这也就是为什么梁孟松带领2000多位工程师，奋战三年，才完成28nm到7nm五个世代的技术攻关！用DUV光刻机生产7nm芯片，代价大、良品低，因此后来台积电改用EUV光刻机。要继续进行7nm制程，就必须要有EUV光刻机。我国缺少的就是第五代EUV极紫外光刻机，因此，武汉弘芯的这台光刻机意义并不很大！
